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冠亞制冷制冷加熱循環(huán)器的配套應(yīng)用介紹

分類:行業(yè)新聞 264

冠亞制冷制冷加熱循環(huán)器采用動態(tài)制冷加熱控溫技術(shù),可以配套各種反應(yīng)器以及儀器提供相應(yīng)的冷源和熱源,那么,制冷加熱循環(huán)器有哪些應(yīng)用呢?

冠亞制冷制冷加熱循環(huán)器的配套應(yīng)用介紹-冠亞恒溫

1、反應(yīng)釜配套

SUNDI系列配合各種材質(zhì)以及小中大型的反應(yīng)釜(溫度在-80至200℃具有高穩(wěn)定性)

TCU控溫單元可以用于工藝恒溫控制器和多臺反應(yīng)釜配合(滿足動態(tài)溫度控制,寬的溫度變化范圍)可以定制隔離防爆款式的制冷加熱循環(huán)器

2、微通道反應(yīng)器配套

WTD系列制冷加熱循環(huán)器針對微通道反應(yīng)器持液量少換熱能力強、循環(huán)系統(tǒng)壓降大特點專門設(shè)計開發(fā)。優(yōu)化溫度采樣及響應(yīng)速度,專門設(shè)計控制算法,能快速響應(yīng)到控溫穩(wěn)定。增強循環(huán)泵能力設(shè)計,滿足反應(yīng)器高壓降需求。持續(xù)高溫降溫技術(shù),滿足在高溫放熱反應(yīng)時,需要冷熱恒溫控制時穩(wěn)定運行。

3、半導(dǎo)體制程中應(yīng)用

LTS系列制冷加熱循環(huán)器廣泛運用在半導(dǎo)體制程中對反應(yīng)腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質(zhì) 不可燃流體控溫場所,適用于半導(dǎo)體芯片制造、芯片器件、航空電子設(shè) 備中的制冷加熱溫度控制。

4、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)配套

制冷加熱循環(huán)器可以同時供應(yīng)2臺到3小的旋蒸同時使用。將風(fēng)冷卻進(jìn)行分路調(diào)節(jié),并節(jié)約實驗室用水。

冠亞制冷的制冷加熱循環(huán)器還配套應(yīng)用在發(fā)酵罐的溫度控制等,選型的時候一般考慮的是配套設(shè)備的工況要求,使用溫度范圍等。

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