實驗室高低溫循環(huán)裝置是一種無錫冠亞的制冷和加熱溫度控制裝置，與各種類型的玻璃反應釜、雙層反應釜、反應釜、萃取設備等裝置配合，實現(xiàn)制冷和加熱的同機運行，那么運行過程中需要注意哪些方面呢？

控制實驗室高低溫循環(huán)裝置的溫度時，需要快速有效地補償化學反應中的吸熱和放熱，在選擇合適的溫控系統(tǒng)時，需要綜合考慮各種條件和影響因素。大多數(shù)溫度控制應用將涉及不銹鋼、玻璃反應釜和其他反應釜。不銹鋼反應釜更耐用，而玻璃反應釜可以讓用戶觀察反應釜中的反應過程。對于玻璃反應釜，應用的靠譜性需要考慮許多因素。

無論實驗室高低溫循環(huán)裝置是風冷還是水冷，控溫裝置都應位于有足夠新鮮空氣的運行環(huán)境中:周圍空間大于30cm。選擇制冷恒溫循環(huán)器的導熱介質時，要注意其溫度上下限、燃點、粘度、冰點等是否符合要求，是否適合儀器內部管道的使用。

選擇實驗室高低溫循環(huán)裝置的傳熱介質管時，長度應盡可能短，直徑應盡可能大。如果直徑太小，可能會導致速度變慢。不要用水作為傳熱介質。加熱制冷恒溫循環(huán)器的導熱介質不合適，會對儀器設備產(chǎn)生負面影響，并可能對設備造成損壞。因此，在規(guī)定的壓力范圍內，只能使用制造商規(guī)定的導熱介質。