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半導體反應腔室控溫系統的使用性能

分類:行業(yè)新聞 298

半導體反應腔室控溫系統是擁有制冷和加熱的恒溫源,通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用。那么,用戶再選購時就要從它的使用性能,各部分動作的平穩(wěn)性、靈活與否、機身高度離地間隙等,看看是否能滿足自己的工況要求,又或是經濟指標是否合理、機器操作是否可靠、穩(wěn)定。

半導體反應腔室控溫系統的使用性能-冠亞恒溫

1、是用于醫(yī)藥生化行業(yè)實驗室中提供冷源、熱源以及恒溫的實驗條件的儀器設備。

2、將制冷和加熱集于一身,來進行實驗,采用電氣來來控制制冷量和加熱量,讓箱體內的反應溫度達到用戶所需溫度。

3、用于多種多臺控溫系統,采用了PID溫度控制算法,利用單一的熱交換介質來控制反應釜的反應溫度,采用全密閉管路來減少反應介質的切換過程,減輕了導熱介質的氧化程度,延長了導熱介質的使用壽命。

4、運用的PID控溫方式可以提高設備的控溫準確度,采用自動控制方式可以減少人為因素的影響,簡化了設備的操作程序,也避免了操作失誤對設備的影響。

5、可以盡快響應控溫中的系統滯后問題,控制系統由主回路和從回路兩組構成,主回路通過控溫溫度變化以及梯度變化,保證達到控溫的準確度。

6、當半導體反應腔室控溫系統通電時,切不可斷開或者重新連接這兩個部件之間的電纜。這會破壞模塊的電路。

7、從維護和安裝時的方便和安全方面考慮,確保在室內機和障礙物之間有足夠的空間。

8、采用進口的壓縮機來進行運作,在運作過程中吸收空氣中的熱量從而得到熱水。通過對循環(huán)水溫度的調整帶動反應物體的溫度進行制冷冷卻。從而實現了高溫低溫都能進行正常反應。

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